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Handbook of Chemical Vapor Deposition (CVD). Principles, Technology and Applications. (Handbuch der chemischen Dampfabscheidung: Prinzipien, Techniken und Anwendungen). Von H. Pierson, Park Ridge/NJ: Noyes Publications 1992. 436 S., 1993, US‐ $ 68,‐

R. Ham

1994Vakuum in Forschung und Praxis

DOI: 10.1002/vipr.19940060117

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HAM, R. Handbook of chemical vapor deposition (CVD). principles, technology and applications. (handbuch der chemischen dampfabscheidung: Prinzipien, techniken und anwendungen). von h. pierson, park ridge/nj: Noyes publications 1992. 436 s., 1993, US‐ $ 68,‐. Vakuum in Forschung und Praxis, 1994, 6: 59–59.